FZ NTD Silicon Wafer

Sự mô tả

FZ-NTD Silicon Wafer, được biết đến với tên gọi Float-Zone Neutron Transmutation Doped Silicon Wafer.Có thể thu được silicon không chứa oxy, độ tinh khiết cao và điện trở suất cao nhất by Tăng trưởng tinh thể FZ (Zone-Floating) vùng nổi, HĐiện trở suất igh Tinh thể silicon FZ thường được pha tạp bởi quá trình pha tạp chất chuyển đổi neutron (NTD), trong đó chiếu xạ neutron vào silicon vùng nổi không pha tạp để làm cho đồng vị silicon bị mắc kẹt với neutron và sau đó phân rã thành chất pha tạp mong muốn để đạt được mục tiêu pha tạp.Thông qua việc điều chỉnh mức bức xạ nơtron, điện trở suất có thể được thay đổi mà không cần đưa chất pha tạp bên ngoài vào và do đó đảm bảo độ tinh khiết của vật liệu.Tấm silicon FZ NTD (Float Zone Neutron Transmutation Doping Silicon) có các đặc tính kỹ thuật cao cấp về nồng độ pha tạp đồng nhất và phân bố điện trở suất xuyên tâm đồng nhất, mức tạp chất thấp nhất,và thời gian tồn tại của tàu sân bay thiểu số cao.

Vận chuyển

Là nhà cung cấp silicon NTD hàng đầu thị trường cho các ứng dụng năng lượng đầy hứa hẹn, và đáp ứng nhu cầu ngày càng tăng về các tấm wafer chất lượng hàng đầu, wafer silicon FZ NTD cao cấptại Western Minmetals (SC) Corporation có thể được cung cấp cho khách hàng trên toàn thế giới với nhiều kích thước khác nhau, từ đường kính 2 ", 3", 4 ", 5" và 6 "(50mm, 75mm, 100mm, 125mm và 150mm) và nhiều loại điện trở suất 5 đến 2000 ohm.cm ở các hướng <1-1-1>, <1-1-0>, <1-0-0> với bề mặt hoàn thiện như cắt, phủ, khắc và đánh bóng trong gói hộp xốp hoặc hộp , hoặc như đặc điểm kỹ thuật tùy chỉnh cho giải pháp hoàn hảo.